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반도체 포장 시설과 웨이퍼 제조 시설의 주요 차이점은 반도체 제조 과정에서 각각의 역할에 있습니다.
웨이퍼 제조 시설 (Fab):
웨이퍼 제조 시설은 반도체 웨이퍼가 생산되는 곳이다.
공장 은 실리콘 웨이퍼 에 융합 회로 (IC) 를 제조 하기 위한 고도로 전문화된 장비 로 장착 되어 있다.
공장의 프로세스에는 사진 리토그래피, 에칭, 퇴적 및 도핑 등이 포함되며, 실리콘 웨이퍼에 반도체 장치의 복잡한 패턴과 구조를 만듭니다.
공장은 일반적으로 오염을 최소화하고 고품질 반도체 생산을 보장하기 위해 종종 청정실으로 분류되는 매우 깨끗한 환경입니다.
반도체 포장 시설:
반도체 포장 시설은 웨이퍼에 제조된 개별 반도체 장치가 조립되고 최종 패키지 형태로 캡슐화되는 곳입니다.
이 과정은 가공된 웨이퍼를 공장에서 가져와 각 다이 (칩) 을 분리하여 볼 그리드 배열 (BGAs) 과 같은 다양한 유형의 패키지로 포장하는 것을 포함합니다.쿼드 플래트 패키지 (QFP), 그리고 더 많은.
포장은 또한 와이어 결합 또는 다른 상호 연결 방법을 포함합니다.
에포시 또는 폼링 화합물 으로 포장 을 봉인 하는 것, 표시 하는 것, 시험 하는 것 등 추가 과정 이 포장 시설 에서도 수행 됩니다.
요약하자면, 웨이퍼 제조 시설은 실리콘 웨이퍼에 반도체 장치를 만드는 데 초점을 맞추고 있지만,반도체 포장 시설은 전자 제품으로 통합 할 수있는 최종 포장 된 형태로 이러한 장치를 조립하는 데 전문적입니다..
